फॉस्फेट-बाउंड जिरकोनिया ज़िरकोनिया टैंपिंग सामग्री के कई नुकसान का सारांश

ज़िरकोन को उच्च-ग्रेड दुर्दम्य सामग्री के रूप में उपयोग किया गया है क्योंकि इसकी उच्च अपवर्तकता, थर्मल विस्तार के कम गुणांक, अच्छे थर्मल शॉक स्थिरता और स्टील और क्षारीय स्लैग कटाव के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध। ऑक्सी-समृद्ध दहन प्रौद्योगिकी के लोकप्रियकरण और अनुप्रयोग के साथ, कांच के पिघलने वाले भट्ठा के पिघलने के तापमान में वृद्धि, और कांच के भट्ठा की समग्र सीलिंग और इन्सुलेशन तकनीक के विकास के साथ, यह पूल-बॉटम टैम्पिंग सामग्री का उपयोग करने के वातावरण को अधिक मांग करता है।
सामग्री के एक घटक के रूप में पुनर्नवीनीकरण किए गए पुनर्नवीनीकरण का उपयोग करने के लिए कांच के उद्यमों के साथ युग्मित, धातु की अशुद्धियों में पुनर्नवीनीकरण ग्लास को पूल के निचले हिस्से में जमा किया जाएगा, और धीरे -धीरे "डाउन होल" कटाव के लिए एक प्रकार के "डाउन होल" कटाव का निर्माण करने के लिए पाउंडिंग परत में प्रवेश किया जाएगा, ताकि पूल पाउंडिंग सामग्री के क्षरण की कमी बढ़ गई।
Zircon Tamping सामग्री बिना रुके दुर्दम्य सामग्री से संबंधित है, निर्माण प्रक्रिया में जोड़े गए बाध्यकारी एजेंट की मात्रा, पानी की मात्रा को जोड़ा गया है, रखरखाव की स्थिति इसके उपयोग पर बहुत प्रभाव डालती है। वर्तमान में, जिक्रोन टैम्पिंग सामग्री में से अधिकांश फॉस्फोरिक एसिड या फॉस्फेट का उपयोग बाइंडिंग एजेंट के रूप में करते हैं, फॉस्फेट नमी को अवशोषित करना आसान है, फॉस्फोरिक एसिड या फॉस्फेट बाइंडिंग एजेंट टैम्पिंग सामग्री में कुछ घटकों के साथ प्रतिक्रिया करेगा, जो बड़े वायु छेदों का उत्पादन करना आसान है। उच्च तापमान पर हानिकारक P2O5 हस्तांतरण वाष्पीकरण और कम-पिघलने वाली सामग्री के गठन से टैंपिंग सामग्री के उच्च-तापमान प्रदर्शन को भी कम कर देता है। ज़िरकोन टैम्पिंग सामग्री की लागत को कम करने के लिए, निर्माण स्थल पर निर्माण दक्षता में सुधार, जिक्रोन टैम्पिंग सामग्री की गुणवत्ता में सुधार, और जिक्रोन टैम्पिंग सामग्री के सेवा जीवन को लम्बा खींचो, फॉस्फेट बंधुआ जिक्रोन टैम्पिंग सामग्री की कई कमियों को संक्षेप में प्रस्तुत किया गया है।
परीक्षण में उपयोग किए जाने वाले मुख्य कच्चे माल थे: zircon ब्रिक एग्रीगेट ({{{0}}} ~ 3 मिमी), zircon रेत (8 0 ~ 15 0} मेष), Zircon पाउडर (0.045mm के बराबर या revonowder (कम से कम), Zircon microph कोरंडम पाउडर (0.045 मिमी से कम या बराबर), और औद्योगिक फॉस्फोरिक एसिड (85%)। आनुपातिक विधि नीचे तालिका 1 में दिखाया गया है:

परीक्षण प्रक्रिया के साथ संयुक्त औद्योगिक फॉस्फोरिक एसिड, सामग्री की तालिका के अनुसार होगा, 2min के लिए मिक्सिंग पॉट सरगर्मी में, फॉस्फोरिक एसिड मिक्सिंग 3min जोड़ने में, 40mmx40mm160 मिमी नमूनों के लिए मोल्डिंग, कमरे के तापमान पर रखरखाव, डेमोल्डिंग समय के लिए अंतिम संघनन, और फिर ड्रायिंग के लिए। इलाज। नीचे दी गई तालिका 2 नमूनों के डिमोल्डिंग समय को दर्शाती है:

तालिका से, यह देखा जा सकता है कि फॉस्फोरिक एसिड बंधुआ नमूनों का सख्त समय B1 ~ B7 32 ~ 34 h है। 3 घंटे के लिए 1200 डिग्री पर गर्मी उपचार के बाद, विभिन्न अनुक्रमों के नमूनों को तालिका 3 में सूचीबद्ध किया गया है, जिसे तालिका 3 में देखा जा सकता है, पुनर्जीवित ज़िरकोनियम कोरुंडम पाउडर के प्रतिशत में वृद्धि के साथ, नमूना की संपीड़ित शक्ति में नियमित परिवर्तन नहीं होते हैं, और लचीले ताकत को बढ़ाने के लिए प्रवृत्ति के साथ उतार -चढ़ाव में उतार -चढ़ाव होता है; पुनर्जीवित जिरकोनियम कोरुंडम पाउडर में वृद्धि के साथ लाइन के परिवर्तन की दर, सिकुड़न में वृद्धि हुई ज़िरकोनियम कोरुंडम पाउडर की वृद्धि के साथ थोक घनत्व में कमी आती है, और पुनर्जीवित जिरकोनियम कोरंडम पाउडर की वृद्धि के साथ जल अवशोषण और स्पष्ट पोरसिटी वृद्धि।

वर्तमान में, फॉस्फोरिक एसिड बॉन्डिंग का उपयोग करके आमतौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला जिरकोनिया तेज़ सामग्री। हालांकि, फॉस्फोरिक एसिड बॉन्डिंग और निम्नलिखित कमियां:
① फॉस्फोरिक एसिड पुनर्जीवित ज़िरकोनिया कोरुंडम पाउडर में अशुद्धियों के साथ प्रतिक्रिया करेगा, जिसके परिणामस्वरूप पोरसिटी, ज़िरकोनिया टैम्पिंग सामग्री के कटाव प्रतिरोध को कम करता है;
② फॉस्फोरिक एसिड बॉन्डिंग जिरकोनिया टैंपिंग सामग्री को कमरे के तापमान पर शक्ति प्रदान करने के लिए कठोर नहीं किया जा सकता है, कोगुलेंट प्रमोटर को जोड़ने की आवश्यकता है, और सख्त एजेंट के अलावा को अधिक अशुद्धियों में जोड़ा जाएगा, ज़िरकोनिया टैंपिंग सामग्री के दीर्घकालिक उपयोग के लिए अनुकूल नहीं है;
③ लंबी अवधि में P2O5 के उच्च तापमान प्रभाव को स्थानांतरित और वाष्पशील किया जाएगा, जो जिरकोन पाउंडिंग सामग्री की ताकत को कम करेगा और सेवा जीवन को प्रभावित करेगा।

Zinfon Refractory Technology Co., Ltd
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